|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of the crystallographic orientation of the surface of single-crystal Si wafers on the endotaxial growth of NiSi2 nanoplates |
| Auteur: |
Schuitek, Thiago Paulino da Silva Costa, Daniel Pereira Mattoso Filho, Ney Kellermann, Guinther |
| Verschenen in: |
Journal of applied crystallography |
| Paginering: | Jaargang 57 () nr. 5 pagina's 1426-1435 |
| Jaar: |
2024-00-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 40 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |