|
Crack propagation and fracture in silicon wafers under thermal stress |
|
|
|
Titel: |
Crack propagation and fracture in silicon wafers under thermal stress |
Auteur: |
Danilewsky, Andreas Wittge, Jochen Kiefl, Konstantin Allen, David McNally, Patrick Garagorri, Jorge Elizalde, M. Reyes Baumbach, Tilo Tanner, Brian K. |
Verschenen in: |
Journal of applied crystallography |
Paginering: |
Jaargang 46 (2013) nr. 4 pagina's 849-855 |
Jaar: |
2013-08-01 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|