|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Three-dimensional X-ray diffraction imaging of process-induced dislocation loops in silicon |
| Auteur: |
Allen, David Wittge, Jochen Stopford, Jennifer Danilewsky, Andreas McNally, Patrick |
| Verschenen in: |
Journal of applied crystallography |
| Paginering: | Jaargang 44 (2011) nr. 3 pagina's 526-531 |
| Jaar: |
2011-06-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |