|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
High diffraction efficiency at hard X-ray energy in a silicon crystal bent by indentation |
| Auteur: |
Barrière, Nicolas Guidi, Vincenzo Bellucci, Valerio Camattari, Riccardo Buslaps, Thomas Rousselle, Julien Roudil, Gilles Arnaud, Franois-Xavier Bastie, Pierre Natalucci, Lorenzo |
| Verschenen in: |
Journal of applied crystallography |
| Paginering: | Jaargang 43 (2010) nr. 6 pagina's 1519-1521 |
| Jaar: |
2010-02-01 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
International Union of Crystallography, 5 Abbey Square, Chester, Cheshire CH1 2HU, England |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |