Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 24 van 40 gevonden artikelen
 
 
  Physical Characteristics of Low-Dose Nitrogen Ions-Implanted Copper Oxide Thin Film on n-Si (100) Substrate
 
 
Titel: Physical Characteristics of Low-Dose Nitrogen Ions-Implanted Copper Oxide Thin Film on n-Si (100) Substrate
Auteur: Ayub, Muhammad Arslan
Afzal, Naveed
Rafique, Mohsin
Aslam, Sameen
Verschenen in: Arabian journal for science and engineering
Paginering: Jaargang 50 () nr. 1 pagina's 467-475
Jaar: 2024-05-15
Inhoud:
Uitgever: Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 24 van 40 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland