|
Al2O3/AlN/GaN MOS-HEMTs on 6-inch silicon substrate with high transconductance and state-of-the-art fmax × LG |
|
|
|
Titel: |
Al2O3/AlN/GaN MOS-HEMTs on 6-inch silicon substrate with high transconductance and state-of-the-art fmax × LG |
Auteur: |
Qin, Lingjie Zhu, Jiejie Zhang, Bowen Zhou, Yuxi Duan, Huantao Ma, Huimei Li, Mengdi Huang, Simei Rao, Jin Ma, Xiaohua Hao, Yue |
Verschenen in: |
Science China information sciences |
Paginering: |
Jaargang 68 () nr. 3 pagina's xx |
Jaar: |
2025-02-12 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Science China Press, Beijing |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|