|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
A Low-Temperature SiO2 Interfacial Layer Preparation using Rapid Thermal Oxidation Process for GAA Nanosheet Based I/O Transistor |
| Auteur: |
Luo, Huaizhi Li, Yan Zhao, Fei Zhang, Xi Wang, Shengkai Xiong, Wenjun Mao, Xiaotong Li, Yongliang |
| Verschenen in: |
SILICON |
| Paginering: | Jaargang 16 () nr. 4 pagina's 1619-1625 |
| Jaar: |
2023-11-29 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 38 gevonden artikelen
| volgende >> |