|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Gate Oxide Variability Analysis of a Novel 3 nm Truncated Fin–FinFET for High Circuitry Performance |
| Auteur: |
Kashyap, Mridul Prakash Chaujar, Rishu |
| Verschenen in: |
SILICON |
| Paginering: | Jaargang 13 () nr. 9 pagina's 3249-3256 |
| Jaar: |
2020-10-06 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |