|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Study of Linearity Performance of Graded Channel Gate Stacks Double Gate MOSFET with Respect to High-K Oxide Thickness |
| Auteur: |
Swain, Sanjit Kumar Das, Satish Kumar Adak, Sarosij |
| Verschenen in: |
SILICON |
| Paginering: | Jaargang 12 () nr. 7 pagina's 1567-1574 |
| Jaar: |
2019-08-30 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |