|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 31 van 61 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of Ta2O5 Interfacial Oxide Layer Thickness on Electronic Parameters of Al/Ta2O5/p-Si/Al Heterostructure |
| Auteur: |
Reddy, N. Nanda Kumar Akkera, Harish Sharma Sekhar, M. Chandra Uthanna, S. |
| Verschenen in: |
SILICON |
| Paginering: | Jaargang 11 (2018) nr. 1 pagina's 159-164 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Netherlands, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 31 van 61 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |