|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation on Material Removal Mechanisms in Photocatalysis-Assisted Chemical Mechanical Polishing of 4H–SiC Wafers |
| Auteur: |
He, Yan Yuan, Zewei Song, Shuyuan Gao, Xingjun Deng, Wenjuan |
| Verschenen in: |
International journal of precision engineering and manufacturing |
| Paginering: | Jaargang 22 () nr. 5 pagina's 951-963 |
| Jaar: |
2021-03-25 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Korean Society for Precision Engineering, Seoul |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |