|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of in-situ plasma cleaning on the crystalline quality of silicon homoepitaxial films |
| Auteur: |
Kim, Kwang-sik Kim, Hyoun-woo |
| Verschenen in: |
Metals and materials international |
| Paginering: | Jaargang 7 (2001) nr. 6 pagina's 637-642 |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Korean Institute of Metals and Materials, Seoul |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |