|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Room temperature, ion energy-controlled deposition of silicon nitride films in a SiH4-N2 plasma |
| Auteur: |
Kim, Byungwhan Kwon, Minji Seo, Yong Ho |
| Verschenen in: |
Metals and materials international |
| Paginering: | Jaargang 16 (2010) nr. 4 pagina's 621-625 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Korean Institute of Metals and Materials, Springer |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |