|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 33 van 33 gevonden artikelen
| Titel: |
Studies on Al2O3/ZrO2/Al2O3 high K gate dielectrics applied in a fully depleted SOI MOSFET |
| Auteur: |
Lin, Chenglu Zhang, Ninglin Shen, Qinwo |
| Verschenen in: |
Metals and materials international |
| Paginering: | Jaargang 10 (2004) nr. 5 pagina's 475-478 |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Korean Institute of Metals and Materials, Seoul |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 33 van 33 gevonden artikelen
| << vorige |