|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 33 gevonden artikelen
| Titel: |
Growth of SiGe film by using a single-wafer rapid thermal processing UHV/CVD system |
| Auteur: |
Huang, Wentao Chen, Changchun Li, Xiyou Xiong, Xiaoyi Liu, Zhihong Zhang, Wei Xu, Jun Tsien, Pei-hsin |
| Verschenen in: |
Metals and materials international |
| Paginering: | Jaargang 10 (2004) nr. 5 pagina's 435-438 |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Korean Institute of Metals and Materials, Seoul |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 33 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |