|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
A study on the reactive ion etching of SiC single crystals using inductively coupled plasma of SF6-based gas mixtures |
| Auteur: |
Ahn, S. C. Han, S. Y. Lee, J. L. Moon, J. H. Lee, B. T. |
| Verschenen in: |
Metals and materials international |
| Paginering: | Jaargang 10 (2004) nr. 1 pagina's 103-106 |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Korean Institute of Metals and Materials, Seoul |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |