|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of thermal contact resistance on film growth rate in a horizontal MOCVD reactor |
| Auteur: |
Im, Ik-Tae Choi, Nag Jung Sugiyama, Masakazu Nakano, Yoshiyaki Shimogaki, Yukihiro Kim, Byoung Ho Kim, Kwang-Sun |
| Verschenen in: |
Journal of mechanical science and technology |
| Paginering: | Jaargang 19 () nr. 6 pagina's 1338-1346 |
| Jaar: |
2008-11-04 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Korean Society of Mechanical Engineers, Seoul |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |