|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 13 gevonden artikelen
| Titel: |
Formation of Thick High-Aspect-Ratio Resistive Masks by the Contact Photolithography Method |
| Auteur: |
Gentselev, A. N. Dul’tsev, F. N. Kondrat’ev, V. I. Lemzyakov, A. G. |
| Verschenen in: |
Optoelectronics, instrumentation and data processing |
| Paginering: | Jaargang 54 (2018) nr. 2 pagina's 127-134 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 13 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |