|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Phenomenological model of nanocrystalline silicon film formation by plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Novikov, P. L. Donne, A. Le Cereda, S. Miglio, L. Pizzini, S. Binetti, S. Rondanini, M. Cavallotti, C. Chrastina, D. Moiseev, T. Känel, H. von Isella, G. Montalenti, F. |
| Verschenen in: |
Optoelectronics, instrumentation and data processing |
| Paginering: | Jaargang 45 (2009) nr. 4 pagina's 322-327 |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Allerton Press, Inc., Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |