|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Scratch Behavior of ZrO2 Thin Film Prepared by Atomic Layer Deposition Method on Silicon Wafer |
| Auteur: |
Kim, Si Hwan Yang, Byung Chan An, Jihwan Ahn, Hyo Sok |
| Verschenen in: |
Journal of friction and wear |
| Paginering: | Jaargang 38 (2017) nr. 6 pagina's 469-476 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |