|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of NiO films prepared by atomic layer deposition using bis(ethylcyclopentadienyl)-Ni and O2 plasma |
| Auteur: |
Ji, Su-Hyeon Jang, Woo-Sung Son, Jeong-Wook Kim, Do-Heyoung |
| Verschenen in: |
Korean journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 35 (2018) nr. 12 pagina's 2474-2479 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |