|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of silyl concentration, hydrogen concentration, ion flux, and silyl surface diffusion length on microcrystalline silicon film growth |
| Auteur: |
Wen, Shutang Zhang, Liwei Lu, Jingxiao Li, Yuxiao Du, Zhiyong |
| Verschenen in: |
Korean journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 25 (2008) nr. 6 pagina's 1539-1545 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |