|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of the silicon surface treatment by plasma etching and scratching on the nucleation of diamond grown in HFCVD - a comparative study |
| Auteur: |
Ansari, Shafeeque G. Dar, Mushtaq Ahmad Kim, Young-Soon Seo, Hyung-Kee Kim, Gil-Sung Wahab, Rizwan Ansari, Zubaida A. Seo, Jae-Myung Shin, Hyung-Shik |
| Verschenen in: |
Korean journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 25 (2008) nr. 3 pagina's 593-598 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |