|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 28 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
Reduction of proximity effect in electron beam lithography by deposition of a thin film of silicon dioxide |
| Auteur: |
Seo, Chang-Ho Suh, Kahp-Yang |
| Verschenen in: |
Korean journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 25 (2008) nr. 2 pagina's 373-376 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 28 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |