|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 34 gevonden artikelen
| Titel: |
Multi-way principal component analysis for the endpoint detection of the metal etch process using the whole optical emission spectra |
| Auteur: |
Han, Kyounghoon Park, Kun Joo Chae, Heeyeop Yoon, En Sup |
| Verschenen in: |
Korean journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 25 (2008) nr. 1 pagina's 13-18 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 34 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |