|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison of atomic scale etching of poly-Si in inductively coupled Ar and He plasmas |
| Auteur: |
Yun, Hyung Jin Kim, Tae Ho Shin, Chee Burm Kim, Chang-Koo Min, Jae-Ho Moon, Sang Heup |
| Verschenen in: |
Korean journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 24 (2007) nr. 4 pagina's 670-673 |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |