|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Electron cyclotron resonance (ECR) plasma-enhanced chemical vapour deposition of silicon dioxide on strained-SiGe films using tetraethylorthosilicate |
| Auteur: |
Bera, L K Ray, S K Banerjee, H D Maiti, C K |
| Verschenen in: |
Bulletin of materials science |
| Paginering: | Jaargang 21 () nr. 4 pagina's 283-286 |
| Jaar: |
2007-11-08 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer India, New Delhi |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |