|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of electron beam evaporation process parameters on infrared refractive index of Ge film |
| Auteur: |
Li, Kun Xiong, Yu-qing Wang, Hu Zhang, Kai-feng Xu, Ling-mao Li, Xue-lei Zhou, Hui |
| Verschenen in: |
Optoelectronics letters |
| Paginering: | Jaargang 16 () nr. 4 pagina's 298-302 |
| Jaar: |
2020-07-10 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Tianjin University of Technology, Tianjin |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |