|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
Stress control of silicon nitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Li, Dong-ling Feng, Xiao-fei Wen, Zhi-yu Shang, Zheng-guo She, Yin |
| Verschenen in: |
Optoelectronics letters |
| Paginering: | Jaargang 12 (2016) nr. 4 pagina's 285-289 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Tianjin University of Technology, Tianjin |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |