|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 32 van 128 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of Random Nanosized TiN Grain on Characteristic of Gate-All-Around FinFETs with Ferroelectric HZO Layer |
| Auteur: |
Li, Yiming Chuang, Min-Hui Tsai, Yu-Chin |
| Verschenen in: |
Nanoscale research letters |
| Paginering: | Jaargang 17 () nr. 1 pagina's xx |
| Jaar: |
2022-01-21 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 32 van 128 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |