Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
   volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 1 van 80 gevonden artikelen
 
 
  A material removal rate model-based chemical action of ultra-thin SUS304 substrate in chemical mechanical polishing
 
 
Titel: A material removal rate model-based chemical action of ultra-thin SUS304 substrate in chemical mechanical polishing
Auteur: Wei, Xin
Yang, Xiangdong
Xie, Xiaozhu
Hu, Wei
Verschenen in: The international journal of advanced manufacturing technology
Paginering: Jaargang 85 (2015) nr. 1-4 pagina's 287-290
Jaar: 2015
Inhoud:
Uitgever: Springer London, London
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 1 van 80 gevonden artikelen
 
   volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland