|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 72 van 88 gevonden artikelen
| Titel: |
Residual stress classification of pulsed DC reactive sputtered aluminum nitride film via large-scale data analysis of optical emission spectroscopy |
| Auteur: |
Lo, Hsiao-Han Chen, Wei-Lun Wang, Peter J. Lai, Walter Fuh, Yiin-Kuen Li, Tomi T. |
| Verschenen in: |
The international journal of advanced manufacturing technology |
| Paginering: | Jaargang 119 () nr. 11-12 pagina's 7449-7462 |
| Jaar: |
2022-01-25 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer London, London |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 72 van 88 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |