|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 44 gevonden artikelen
| Titel: |
Minimizing film residual stress with in situ OES big data using principal component analysis of deposited AlN films by pulsed DC reactive sputtering |
| Auteur: |
Lu, Te-Yun Yang, Yu-Pu Lo, Hsiao-Han Wang, Peter J. Lai, Walter Fuh, Yiin-Kuen Li, Tomi T. |
| Verschenen in: |
The international journal of advanced manufacturing technology |
| Paginering: | Jaargang 114 () nr. 7-8 pagina's 1975-1990 |
| Jaar: |
2021-04-04 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer London, London |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 44 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |