|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 64 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of the ion cathode fall region in relation to the growth rate in plasma sputter deposition |
| Auteur: |
Palmero, A. van Hattum, E. D. Rudolph, H. Habraken, F. H.P.M. |
| Verschenen in: |
The European physical journal. D, Atomic, molecular and optical physics |
| Paginering: | Jaargang 41 () nr. 2 pagina's 303-309 |
| Jaar: |
2006-09-27 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
EDP Sciences, Les Ulis |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 64 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |