|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
Analytical Model of Atomic Layer Deposition of Films on 3D Structures with High Aspect Ratios |
| Auteur: |
Fadeev, A. V. Myakon’kikh, A. V. Rudenko, K. V. |
| Verschenen in: |
Technical physics |
| Paginering: | Jaargang 63 (2018) nr. 2 pagina's 235-242 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 27 gevonden artikelen
| volgende >> |