|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Diffusion of As ions and self-diffusion in silicon during implantation |
| Auteur: |
Demakov, K. D. Starostin, V. A. Shemardov, S. G. |
| Verschenen in: |
Technical physics |
| Paginering: | Jaargang 47 (2002) nr. 10 pagina's 1333-1336 |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Nauka/Interperiodica, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |