|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Ion bombardment of amorphous silicon films during plasma-enhanced chemical vapor deposition in an rf discharge |
| Auteur: |
Abramov, A. S. Vinogradov, A. Ya. Kosarev, A. I. Shutov, M. V. Smirnov, A. S. Orlov, K. E. |
| Verschenen in: |
Technical physics |
| Paginering: | Jaargang 43 (1998) nr. 2 pagina's 180-187 |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Nauka/Interperiodica, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |