|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
A Study on the Improvement of Etch Uniformity in an Ion Beam Etcher with a Magnetized Inductively Coupled Plasma Source |
| Auteur: |
Cheong, H.-W. Kim, J.-W. Kim, K. Lee, H. |
| Verschenen in: |
Plasma physics reports |
| Paginering: | Jaargang 47 () nr. 3 pagina's 289-297 |
| Jaar: |
2021-03-23 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 10 gevonden artikelen
| volgende >> |