|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Dry Etching Characteristics of 16-nm Amorphous Carbon Layer in a Dual-Frequency Plasma Etcher |
| Auteur: |
Cheong, Hee-Woon Kim, Ji-Won Kim, Kyungji Lee, Hwally |
| Verschenen in: |
Plasma physics reports |
| Paginering: | Jaargang 46 () nr. 7 pagina's 732-739 |
| Jaar: |
2020-07-27 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |