|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 6 gevonden artikelen
| Titel: |
New type X-ray mask fabricated using inductively coupled plasma deepetching |
| Auteur: |
Chen, D. Lei, W. Wang, S. Li, C. Guo, X. Mao, H. Zhang, D. Yi, F. |
| Verschenen in: |
Microsystem technologies |
| Paginering: | Jaargang 7 (2001) nr. 2 pagina's 71-74 |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 6 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |