|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Equations of exposure time and X-ray mask absorber thickness in the LIGA process |
| Auteur: |
Gil, K. H. Lee, S. S. Youm, Y. |
| Verschenen in: |
Microsystem technologies |
| Paginering: | Jaargang 7 (2001) nr. 1 pagina's 1-5 |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |