|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 11 gevonden artikelen
| Titel: |
High aspect ratio silicon trench fabrication by inductively coupled plasma |
| Auteur: |
Chung, C. K. Lu, H. C. Jaw, T. H. |
| Verschenen in: |
Microsystem technologies |
| Paginering: | Jaargang 6 (2000) nr. 3 pagina's 106-108 |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 11 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |