|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Controlled gradual and local thinning of free-standing nanometer thick Si3N4 films using reactive ion etch |
| Auteur: |
Guzel, Fatma Dogan Pitchford, William H. Kaur, Jaspreet |
| Verschenen in: |
Microsystem technologies |
| Paginering: | Jaargang 26 () nr. 4 pagina's 1167-1172 |
| Jaar: |
2019-10-31 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |