|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 50 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization method for new resist formulations for HAR patterns made by X-ray lithography |
| Auteur: |
Kunka, Danays Mohr, Jürgen Nazmov, Vladimir Meiser, Jan Meyer, Pascal Amberger, Maximilian Koch, Frieder Schulz, Joachim Walter, Marco Duttenhofer, Thomas Voigt, Anja Ahrens, Gisela Grützner, Gabi |
| Verschenen in: |
Microsystem technologies |
| Paginering: | Jaargang 20 (2013) nr. 10-11 pagina's 2023-2029 |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 50 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |