|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Application of deep reactive ion etching for silicon angular rate sensor |
| Auteur: |
Choi, J. Minami, K. Esashi, M. |
| Verschenen in: |
Microsystem technologies |
| Paginering: | Jaargang 2 (1996) nr. 4 pagina's 186-190 |
| Jaar: |
1996 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 10 gevonden artikelen
| volgende >> |