|
Study on microstructural, chemical and electrical properties of tantalum nitride thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering |
|
|
|
Titel: |
Study on microstructural, chemical and electrical properties of tantalum nitride thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering |
Auteur: |
Grosser, Michaela Münch, M. Brenner, J. Wilke, M. Seidel, H. Bienert, C. Roosen, A. Schmid, U. |
Verschenen in: |
Microsystem technologies |
Paginering: |
Jaargang 16 (2010) nr. 5 pagina's 825-836 |
Jaar: |
2010 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|