|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Shallow and deep dry etching of silicon using ICP cryogenic reactive ion etching process |
| Auteur: |
Sökmen, Ü. Stranz, A. Fündling, S. Merzsch, S. Neumann, R. Wehmann, H.-H. Peiner, E. Waag, A. |
| Verschenen in: |
Microsystem technologies |
| Paginering: | Jaargang 16 (2010) nr. 5 pagina's 863-870 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |