|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of interfacial SiO2 thickness for low temperature O2 plasma activated wafer bonding |
| Auteur: |
Olbrechts, Benoit Zhang, Xuanxiong Bertholet, Yannick Pardoen, Thomas Raskin, Jean-Pierre |
| Verschenen in: |
Microsystem technologies |
| Paginering: | Jaargang 12 (2005) nr. 5 pagina's 383-390 |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |