|
Production of nanocrystalline silicon layers using the plasma enhanced chemical vapor deposition from the gas phase of silicon tetrafluoride |
|
|
|
Titel: |
Production of nanocrystalline silicon layers using the plasma enhanced chemical vapor deposition from the gas phase of silicon tetrafluoride |
Auteur: |
Sennikov, P. G. Golubev, S. V. Shashkin, V. I. Pryakhin, D. A. Drozdov, M. N. Andreev, B. A. Drozdov, Yu. N. Kuznetsov, A. S. Pohl, H. -J. |
Verschenen in: |
JETP letters online |
Paginering: |
Jaargang 89 (2009) nr. 2 pagina's 73-75 |
Jaar: |
2009 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
SP MAIK Nauka/Interperiodica, Dordrecht |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|