|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
On treatment of ultra-low-k SiCOH in CF4 plasmas: correlation between the concentration of etching products and etching rate |
| Auteur: |
Lang, N. Zimmermann, S. Zimmermann, H. Macherius, U. Uhlig, B. Schaller, M. Schulz, S. E. Röpcke, J. |
| Verschenen in: |
Applied physics. B, Lasers and optics |
| Paginering: | Jaargang 119 (2015) nr. 1 pagina's 219-226 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |